光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):已知:Ⅰ.(R1,R2为烃基...
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):
已知:
Ⅰ.(R1,R2为烃基或*)
Ⅱ. (R1,R2为烃基)
(1)B分子中所含官能团的名称为 ▲ ,由F到G的反应类型为 ▲ ;
(2)乙炔和羧*X发生加成反应生成E,E的核磁共振*谱有三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E加聚后产物F的结构简式为 ▲ ;
(3)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 ▲ ;
(4)C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显*反应
②苯环上的一*取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式: ▲ 。
(5)根据已有知识并结合本题信息,写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用,合成路线流程图示例见本题题干)。 ▲
【回答】
(1)碳碳双键、醛基(2分) 水解(或取代)反应(2分)
(2)(2分)
(3)(2分)
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(4)(2分) (5)(5分)
知识点:烃的衍生物单元测试
题型:推断题
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