光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如图(部分试剂、反应条件和产物已略去):已知:Ⅰ.(R1、R2为烃基...
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如图(部分试剂、反应条件和产物已略去): 已知:Ⅰ.(R1、R2为烃基或*) Ⅱ.(R1、R2为烃基) (1)A分子的名称为______,B分子中所含官能团的名称为______,由C到D的反应类型为______; (2)乙炔和羧*X发生加成反应生成E,E的核磁共振*谱有三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为______; (3)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为______; (4)C的同分异构体满足下列条件: ①能发生银镜反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显*反应;②分子中只有一个环状结构。满足上述条件的同分异构体有______种。其中苯环上的一*取代产物只有两种的同分异构体的结构简式为:______ (5)根据已有知识并结合本题信息,写出以 CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用,合成路线流程图示例见本题题干)______。
【回答】
苯*醛 碳碳双键、醛基 氧化反应 CH3COOCH=CH2 3
知识点:烃的衍生物单元测试
题型:推断题
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