实验室用H2还原SiHCl3(沸点：31.85℃)制备纯硅的装置如图所示(夹持装置和尾气处理装置略去)，下列说...

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实验室用H2还原SiHCl3(沸点：31.85 ℃)制备纯硅的装置如图所示(夹持装置和尾气处理装置略去)，下列说法正确的是(    )

A. 装置Ⅱ、Ⅲ中依次盛装的是浓H2SO4、*水

B. 实验时，应先加热管式炉，再打开盛装稀硫*的分液漏斗

C. 为鉴定制得的硅中是否含微量铁单质，用到的试剂可以为：盐*、双氧水、硫*化钾溶液

D. 该实验中制备*气的装置也可用于*氧化*稀溶液与*化铵固体反应制备氨气

【回答】

【*】C

【解析】

本题制备晶体硅，H2＋SiHCl3Si＋3HCl，此反应应在IV装置中进行，A、装置I的目的是制备*气，*气中含有水蒸气，对后续实验产生干扰，必须除去，因此装置II的目的是除去*气中的水蒸气，即II中盛放浓硫*，III的提供SiHCl3气体，因此在水浴中加热，故A错误；B、应先通入*气，目的是排除装置中的空气，防止发生危险，故B错误；C、硅不与盐*反应，铁与盐*反应生成Fe2＋，Fe2＋被H2O2氧化成Fe3＋，与KSCN溶液变红，可以鉴定是否含有铁单质，故C正确；D、用NaOH溶液制备氨气，需要加热或NaOH溶液为浓溶液，I装置中没有加热装置，且NaOH溶液为稀溶液，因此此装置不能制备氨气，故D错误。

知识点：物质的分离 提纯和检验

题型：选择题