光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，光刻机的曝光波长越短，分辨率越高。“浸没式光刻”是一种通过在光刻胶和投影...

问题详情：

光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，光刻机的曝光波长越短，分辨率越高。“浸没式光刻”是一种通过在光刻胶和投影物镜之间加入浸没液体，从而减小曝光波长、提高分辨率的技术。如图所示，若浸没液体的折*率为1.44，当不加液体时光刻胶的曝光波长为193nm，则加上液体时光刻胶的曝光波长变为（　　）

A．161 nm                  B．134 nm                  C．93nm                     D．65nm

【回答】

B

【解析】

加上液体时光刻胶的曝光波，光在液体中的传播速度为，不加液体时联立得

故B正确，ACD错误。

故选B。

知识点：光的折*

题型：选择题